英文名 hydrofluoric acid,分子式HF,分子量 20. 01。為無色透明液體 ,相對密度1. 15～1 . 18,沸點 112 . 2 ℃,在空氣中發煙 ,有刺激性氣味 ,劇毒。能與一般金屬、 金屬氧化物以及氫氧化物發生反應 ,生成各種鹽類。腐蝕性極強 ,能侵蝕玻璃和硅酸鹽而生成氣態的四氟化硅。易溶于水、醇 ,難溶于其他有機溶劑。高純氫氟酸為強酸性清洗、 腐蝕劑 ,可與硝酸、冰醋酸、 雙氧水及氫氧化銨等配置使用。 應用于集成電路 ( I C)和超大規模集成電路 (VLSI)芯片的清洗和腐蝕 ,是微電子行業制作過程中的關鍵性基礎化工材料之一 ,還可用作分析試劑和制備高純度的含氟化學品。目前 ,在國內基本上是作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業 ,以及光伏太陽能行業，其他方面用量較少
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